大家对脑疝一点也不陌生吧，有很多的人都知道脑疝，但是大家对脑疝也存在着许多的疑问，有些患者不知道脑疝的是有什么因素引起的，有的人不知道脑疝的分类，还有的人不知道脑疝好发部位，今天小编为大家准备了脑疝的相关内容，希望能帮到大家。

　　形成脑疝的四大主要因素

　　(一)颅内压增高是发生脑疝的先决条件

　　因为多种原因、比如颅脑损伤、颅内肿瘤、颅内炎症、脑血管疾病、中枢神经系统中毒或者其他的原因造成的脑缺氧、脑水肿等所产生的颅内压增高是引脑疝的先决条件，也就是说脑疝的患者一定有颅内压增高、脑疝是颅内压增高的最终结果。

　　(二)脑疝的发生与颅内压的高低及其增高的速度有关

　　一般说来，颅内压力越高越易发生脑疝，但颅内压的高低只是发生脑疝的重要因素之一，脑疝的形成还与颅内压力增高的速度有关。

　　在颅内压缓慢增高者，颅内常可以较好地适应代偿，虽压力达到相当高度却不一定发生脑疝;

　　相反的是，在颅内压急速的增高患者，虽然压力增高不怎么明显，但是可以形成脑疝，有人说，在急性颅内压增高的时候，当脑脊液压力达到220 mm，就会可出现小脑扁桃体疝。

　　而在慢性颅内压增高病例，脑脊液压力有时高逃850 mmH2O，并未有小脑扁桃体疝形成。

　　(三)脑疝的发生与颅内病变的部位有关

　　由于大脑半球各脑叶的解剖部位及受压后各脑叶移位的情况不同，其中颥叶占位性病变最容易发生脑疝，而弥漫性脑水肿、脑肿胀及矢状窦旁脑膜瘤则较少发生。

　　(四)脑疝的发生与颅内的解剖结构有关

　　颅内的某些解剖结构如小脑幕切迹、枕骨大孔等在颅内压增高时是阻力较小的部位.当颅内占位性病变发展到颅内再无代偿余地时就可挤压某此部位的脑组织向这些阻力较小的部位移动而形成脑疝，其中小脑幕切迹是形成颞叶钩回疝的部位，而枕骨大孔是形成小脑扁桃体疝的部位。

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